編號 | 34 |
位置 | 材料科技館R125 |
用途 | 除了一般傳統X光繞射量測實驗,可作材料之晶體結構(Phase ID)、晶格常數(Lattice Parameter)、定性分析(Crystal Qualitative Analysis)之外,本設備搭配不同掃瞄模式及分析軟體,可針對多層薄膜作膜厚(Thinckness)、密度(Density);針對單晶或磊晶結構薄膜作膜厚(Thinckness)、組成比(Compound Ratio)分析。 |
管理者 | 侯律丞 |
管理者Email | leohou0724@gmail.com |
分機電話 | 03-5715131 #33860 |